真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどのドライプロセスをPVD（Physical Vapor Deposition）と呼んでいます。これらの皮膜と皮膜形成時の特徴を比較すると、【表1】に示すとおりです。
【表1】各種PVDの比較
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蒸発源の材料の成分と、皮膜の成分が同じであれば問題ありませんが、PVDの方法によってはそのようにはなりません。材料の蒸発方法、イオン化の方法、反応性ガスの有無などによって大きく異なります。
一般に皮膜成分は、真空蒸着とイオンプレーティングでは変化し、スパッタリングは変化しないといわれています。蒸発材料を食塩水に例えると、前者では水だけが飛び、後者では水と食塩が飛んでくるといわれています。