低散乱平行平面基板

【特長】
・平行平面基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm(Ra)以下にしました。
・基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
・ウェッジタイプはビームスプリッターなどの裏面反射の影響が気になる場合に使用します。
・CaF2( フッ化カルシウム)、MgF2(フッ化マグネシウム)は紫外域及び赤外域で高い透過性があります。
・表面粗さ(ミクロな凸凹)と同時に面精度(面全体の平坦さ)も高く加工されている理想に近い基板です。
・※低散乱基板の両面ともコーティングされていません。
・※ガラス表面には2.5%～4%の反射があります。
・※ウェッジタイプを透過で使用した場合、ビームが0.5度程度傾斜します。
・※CaF2は表面に傷がつきやすく、紙で拭くことはできません。
・※ゴミや埃はエアーブロアーを使って取り除いてください。
・※CaF2やMgF2は高湿の環境下で長時間放置すると、表面が荒れてきます。
・※使用しない場合はオートドライなどの湿度が少ない環境で保管ください。